化学机械抛光机

仪器名称：化学机械抛光机

品牌:  布鲁克

型号：TriboLab CMP

产地：美国

仪器介绍：

1.加载方式：伺服控制闭环加载；
2.样片夹持方式：水表面张力吸附夹持；
3.抛光速率（硅晶圆片）：300nm/min；
4.最小粗糙度（硅晶圆片）：1nm；

5.化学机械抛光机主要用于Si、SiC、Ge、GaN等半导体材料，SiO2、Si3N4、CeO2、GeO、Al2O3等金属氧化物以及Al普通金属和Au、Pt等惰性金属的化学机械抛光工艺。